本文以钼粉、铌粉为原料,采用热压烧结工艺制备Mo-10Nb合金靶材,并将Mo-10Nb靶材用于直流磁控溅射镀膜,分析Mo-10Nb靶材的制备工艺对溅射薄膜性能与微观形貌的影响。通过研究不同热压工艺参数和Nb粉含量对Mo-10Nb合金靶材致密度和微观形貌的影响,探索合适的热压工艺参数,从而制备出高纯、高致密和晶粒均匀的Mo-10Nb合金靶材,并探讨了制备工艺对磁控溅射薄膜性能的影响。本实验采用X射线衍射仪、四探针电阻仪、AFM和SEM等分别表征溅射薄膜的择优取向、结晶性、导电性能、表面粗糙度、截面形貌及薄膜厚度,继而确定Mo-10Nb合金靶材的热压温度与薄膜性能之间的关系。研究结果表明:采用热压烧结工艺比无压烧结工艺更容易获得高致密、结晶性好和Nb元素分布均匀的Mo-10Nb合金靶材,且Mo-10Nb合金热压烧结的致密化过程与McClelland(麦克莱兰德)热压方程吻合,表明热压烧结温度和压力是Mo-10Nb合金致密化的关键因素。同时,通过研究加入不同含量Nb粉对Mo-Nb合金靶材的物相、致密度、微观形貌等的影响,得出10 wt%的Nb粉加入有利于靶材的致密化和晶粒细化。此外,对Nb粉含量为10 wt%时,不同热压烧结温度制备的Mo-10Nb合金靶材进行磁控溅射,分析其溅射薄膜的性能,结果表明:热压烧结温度为1820℃,保温时间为2 h,压力为15 MPa时,制备的Mo-10Nb合金靶材,其溅射薄膜的结晶性较好,择优取向为(110)晶面,表面粗糙度为87 nm,方阻值为0.1?(14)?。