本文以武运粳7号为材料,从H₂O₂对Cd胁迫下水稻幼苗生长的影响、幼苗体内氧化损伤、细胞膜损伤、Cd在幼苗体内积累与分布以及Cd胁迫后矿质元素的吸收等方面来阐明H₂O₂对水稻Cd毒害的缓解机制,主要得到以下结果:1、100μmol/L Cd处理明显抑制了水稻幼苗株高和生物量的积累,降低了水稻体内CAT、APX、SOD活性和可溶性蛋白含量,提高了POD活性,导致体内MDA、脯氨酸含量积累。外源H₂O₂处理可以不同程度的缓解Cd对水稻幼苗生长的毒害作用,10μmol/L H₂O₂浓度处理效果最佳。2、Cd处理降低了水稻叶中叶绿素含量,并对根系活力产生明显的抑制作用,增加细胞壁果胶、半纤维素的含量。H₂O₂处理可以有效缓解Cd对水稻生长的抑制作用,提高根系活力和叶绿素含量,并使细胞壁果胶和半纤维素含量增加,但H₂O₂清除剂DMTU的加入使H₂O₂的缓解作用消失,甚至进一步加重Cd对水稻幼苗生长的抑制程度。3、H₂O₂处理提高了Cd胁迫下水稻幼苗体内CAT活性、APX活性、SOD活性、脯氨酸、可溶性蛋白含量、GSH含量、NO含量和NOS活性,但使POD活性、超氧阴离子产生速率、H₂O₂含量、GSSG、NPT和PC含量降低。但DMTU处理使H₂O₂的作用消失,还会增重Cd毒害。4、Cd胁迫下,水稻幼苗体内Cd含量会明显增加,尤其是根中Cd积累量大幅增加;Cd处理可以明显降低水稻幼苗叶、茎和根中Ca、Mn、Mg、Cu和Zn含量。H₂O₂处理能够明显降低水稻幼苗叶、茎和根中Cd积累量。此外,H₂O₂处理可不同程度的提高Cd胁迫下水稻幼苗叶、茎、根中Ca、Mn、Mg、Fe、Cu和Zn的含量;而H₂O₂清除剂DMTU的加入在进一步增加了Cd胁迫下水稻幼苗中,特别是根中Cd含量。