【摘 要】
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该文在国内外文献调研和相关试验考察的基础上,提出了工业生产型PCVD设备的设计要求,并研制了Φ800×600有效工作空间、射频、平行电容耦合、内加热、低真空、低温制备Si-B-N
【出 处】
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中国地质大学 中国地质大学(武汉)
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该文在国内外文献调研和相关试验考察的基础上,提出了工业生产型PCVD设备的设计要求,并研制了Φ800×600有效工作空间、射频、平行电容耦合、内加热、低真空、低温制备Si-B-N薄膜及进行金属工件表面强化的PCVD工业应用型设备.在同类设备研究中,该设备具有制造成本低、生物效率高、生产批量大、低温、低真空、控制简单准确等优点.通过对设备的调试、工艺试验、制定了薄膜强化的具体工艺和参数,测定该设备的伏安特性,曲线和最低点燃电压曲线.试验完成了工件予处理工艺规范,以保证薄膜与基体间的结合强度.用来作表面强化试验的试样基体采用45钢、Cr10MOV和T8钢,每种材料在淬火后均进行300℃、200℃回火和调质处理.分析了薄膜制备工艺参数对沉积效果的影响;原始粗糙度对复合膜成膜性能的影响;得出了最佳粗糙度的临界值.观察了基体材料对薄膜性的影响,测定了不同成膜条件下的薄膜厚度和硬度.
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