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射频离子源的去除特性研究
【摘 要】
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随着现代科学技术的飞速发展,光学和微电子学等领域对超光滑表面的需求日益增多,同时对相关重要元件的表面精度也提出了新的要求,需要达到纳米级,甚至亚纳米级的水平。离子束抛光技术是近年来出现的一种高确定性超光滑光学表面加工技术,其中去除特性是其研究的重点和难点。本文采用射频离子源对熔石英样片进行加工去除,重点研究了射频离子源的去除特性和工艺参数的优化。主要工作和结论如下:首先,阐述了离子束抛光的工作原理
【机 构】
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西安工业大学
【出 处】
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西安工业大学
【发表日期】
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2020年03期
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