【摘 要】
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该文对高效激光刻槽埋栅电池的设计、工艺,特别是背面结构作了探讨和研究,以适应光电池发展的要求.针对激光刻槽电池的特点,采用了大间距的正面电极图形;通过模拟,选择了深结
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该文对高效激光刻槽埋栅电池的设计、工艺,特别是背面结构作了探讨和研究,以适应光电池发展的要求.针对激光刻槽电池的特点,采用了大间距的正面电极图形;通过模拟,选择了深结、适中掺杂浓度的发射区设计;通过实验对比,对材料和工艺进行了选择.在合理设计和优化工艺的基础上制作的区熔硅材料、全铝背场激光刻槽电池效率达到18.6%,CZ材料电池效率亦达到17.2%.这些结果都接近目前国际上同类电池的最好水平.分析了全铝背场结构在电池中的作用.通过分析和模拟显示,在采用低阻材料、背表面高复合情况下,背表面场提高电池性能的作用是有限的.该文对局域背接触结构电池也进行了研究,重点是背面电极的设计和部分工艺上的改进.获得的电池效率达到17.3%,较高的填充因子显示电池的结构设计是成功的.这些结果为进一步的研究提供了良好的基础.
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