【摘 要】
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用对向靶反应溅射法成功制备出高质量的α″-FeN薄膜材料.系统研究了不同条件下制备的α″-FeN薄膜的结构及磁性.详细研究了不同的基底材料以及基底温度对薄膜结构的影响.基
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用对向靶反应溅射法成功制备出高质量的α″-Fe<,16>N<,2>薄膜材料.系统研究了不同条件下制备的α″-Fe<,16>N<,2>薄膜的结构及磁性.详细研究了不同的基底材料以及基底温度对薄膜结构的影响.基底材料和基底温度对于Fe-N薄膜的制备有重要影响.当温度为120~150℃时,最有利于α″-Fe<,16>N<,2>薄膜的生长.而且微晶的小尺寸效应对薄膜的宏观磁性有重要影响.当基底温度为50℃时,得到了晶粒尺寸为10~20nm的铁氮薄膜,而且得到的铁氮薄膜呈现超顺磁现象.用透射电镜原位退火研究了α″-Fe<,16>N<,2>薄膜的结构稳定性,并用振动样品磁强计研究了相对应的同一薄膜的磁性的热稳定性.
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