随着大型激光驱动器的发展，激光传输能量越来越高，目前大口径光学元件的损伤阈值是制约高功率激光系统发展和应用的关键因素之一。光学元件介质膜存在的缺陷点在激光照射下形成损伤点，部分损伤点在激光辐照下会发生损伤增长，并且损伤点引起的光场调制会破坏后续光路中的光学元件。光学元件介质膜缺陷点筛查技术就是在元件使用之前对其进行缺陷点筛查与定位，它对于刚刚兴起的超短脉冲修复技术是十分必要的。本文围绕光学元件损伤检测和介质膜缺陷筛查展开，目的都是为了更加快捷准确的检测到光学元件的瑕疵，以便通过合理的手段改善其抗损伤性能，减少系统维护成本。本文内容包括:　　1.结合线扫描位相差分成像和暗场成像技术实现损伤点图像提取，提出了双三次插值算法应用于损伤检测，有效提升了损伤检测的分辨能力，将50微米的分辨能力提升至近30微米。进一步开展了辐射标定的实验研究，建立了光学元件损伤点大小和损伤图像对应点灰度响应之间的关系;定标后通过灰度计算可实现亚像素级别的损伤点尺度的检测，误差小于±25％。　　2.提出光学元件表面缺陷筛查方案，考查了符合缺陷点筛查精度需求的二维位移台单元和自动对焦单元的关键参数，并完成单元技术的集成;在现有装置上测试了熔石英的损伤阈值;阐述等离子体闪光法产生机制，缺陷筛查过程中出现等离子体溅射，形成闪光，利用PIN管及数据采集卡组成一个筛查记录装置，实现缺陷点快速定位。