热蒸发法制备SiO2纳米材料及其参数影响研究

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纳米材料是材料领域当中非常重要的研究对象。SiO2纳米材料作为纳米材料中重要的成员之一,其在透明绝缘、光电子器件、光化学和光波导等领域具有潜在的应用价值。本文利用热蒸发方法(物理气相沉积方法),探索了催化剂、沉积温度以及还原剂对制备的SiO2纳米材料的结构、形貌及性能的影响规律。得出以下结论:(1)采用热蒸发方法,使用Pt作催化剂时,制备的SiO2纳米材料在结构上具有直径小、表面光滑、材料的顶端有液滴等特点;在光学性能上,由于Pt元素的掺入,SiO2纳米材料的发射峰发生了蓝移(630 nm至568 nm)且发光强度减弱。(2)采用热蒸发方法,沉积温度不同时,随着沉积温度的降低纳米线的长度变短,直径略细;光致发光光谱显示,样品具有较强的绿色发光带,该研究对改善光电子器件的性能应用具有重要意义。(3)采用热蒸发方法,使用C作还原剂时,对制备的SiO2纳米材料经过EDX、XRD及Raman检测发现纳米材料中存在少量的碳化合物和Si纳米晶;另外,用C作还原剂时制备的纳米线展现出独特的光学特性,发光范围较宽。
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