【摘 要】
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光学薄膜在现代光学领域有着举足轻重的作用,几乎所有的光学系统都需要用到镀膜技术。对于高精度的镀膜技术来说,镀膜仅仅是对基片表面形态的一个复制过程,也就是说,基片表面的质量会直接影响薄膜的散射特性。因此,镀膜前对基片表面进行准确地检测和严格地挑选是十分必要的。一般来说,光散射法由于自身的优点,是使用非常广泛的一种无损检测技术。研究表明,透明基片的表面粗糙度和折射率不均匀性是导致基片表面散射和体散射的
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光学薄膜在现代光学领域有着举足轻重的作用,几乎所有的光学系统都需要用到镀膜技术。对于高精度的镀膜技术来说,镀膜仅仅是对基片表面形态的一个复制过程,也就是说,基片表面的质量会直接影响薄膜的散射特性。因此,镀膜前对基片表面进行准确地检测和严格地挑选是十分必要的。一般来说,光散射法由于自身的优点,是使用非常广泛的一种无损检测技术。研究表明,透明基片的表面粗糙度和折射率不均匀性是导致基片表面散射和体散射的根本原因。当光入射到透明基片上时,其表面散射和体散射会相互耦合在一起,导致无法对表面散射进行独立
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