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随着高能粒子和宇宙X射线探测领域的发展,亚微米与纳米周期金自支撑透射光栅的制备也得到了重大发展。但目前世界众多科研机构多采用干涉光刻的手段制备自支撑光栅,干涉光刻设备昂贵,曝光系统复杂,而且受衍射效应的影响,很难制备周期200nm以下的光栅。本文采用了纳米压印技术,结合物理气相沉积蒸发镀膜,电感耦合等离子刻蚀,化学微电镀,接触式光刻,湿法腐蚀等微加工手段,成功制备出200nm周期的金自支撑光栅。纳米压印技术没有衍射效应的影响,可以制备线宽5nm以下的图案,而且有着成本低、效率高、大面积等优点。本文具