石英的用途十分广泛，并且是光纤通讯、半导体工业、电子等行业不可或缺的材料。随着科技的发展，这些行业对高纯石英的需求量越来越大，天然石英中往往含有大量杂质，难以去除，因此，科研工作者作了大量研究通过除杂或者合成法以得到高纯石英。目前，将天然石英通过物理、化学、生物的方法除去杂质可以提高纯度，但一种方法往往只能除去其中几种杂质，要想除去所有杂质，需要复杂的工艺。利用高纯有机硅原料可以合成高纯石英，但此类方法成本较高。因此，寻求一种工艺简单，对原料和设备要求较低的方法成为研究的主要方向。　　本文以工业纯石英为原料，以氨水为沉淀剂，采用分步沉淀法合成高纯石英。主要研究结果如下:　　1.以氨水为沉淀剂，在pH＜7时，溶液中生成金属氢氧化物，在pH=7-8间，生成二氧化硅，因此在pH=7时过滤掉杂质富集的初始沉淀物，在高pH值可以获得高纯石英粉体。在pH=7时将沉淀物过滤，用氨水继续滴定至pH=9得到常规金属杂质含量为8.2ppm的石英。　　2.以双氧水为氧化剂，将Fe元素全部氧化为Fe3+，使Fe(OH)3作为载体沉淀剂，可以载带其他金属氢氧化物。在含硅溶液中加入H2O2在95℃反应2h后，再用氨水滴定含硅溶液至pH=7时将沉淀物过滤，取滤液用5wt％氨水继续滴定至pH=9得到常规金属杂质含量仅为4.27ppm的高纯石英粉体。　　3.将分步沉淀法制备的石英粉体，采用稀盐酸与草酸混合酸洗，得到杂质总含量仅为1.8ppm的高纯石英。