本文利用光量热差示扫描量热仪WDSC对丙烯酸酯光固化动力学进行了研究,分别考察了光引发剂、齐聚物、活性单体、填料Si02以及温度、光强、时间、氧阻聚等因素对紫外光固化过程的影响。基于对光固化动力学的了解,配制出PCB电路板用光致抗蚀剂,考察了光至抗蚀剂在铝箔上的附着力的影响因素,并对抗蚀剂的耐酸耐碱刻蚀效果进行了评价,得到以下结论：一、通过比较光固化达到最大固化速率的时间,光固化速率增加最快时的时间以及光固化诱导期的差异可以评价光固化反应的快慢。二、填料Si02对不同的齐聚物体系光固化的影响有差异。Si02对环氧丙烯酸酯体系光固化速率以及转化率的影响要大于对聚氨酯丙烯酸酯体系光固化的影响,这与齐聚物分子链的结构的刚柔性有关。三、单体中引入乙氧基能减小光固化过程中的氧阻聚作用,光固化过程氧阻聚的大小与单体中α-H的数量以及单体的黏度有关。四、得到了脂肪族聚氨酯丙烯酸酯CN8004体系的光固化动力学模型为R=[k1+k2(1一C)m]Cn。五、阳离子体系的光致抗蚀剂在铝基上的铺展较自由基体系差,在铝基上印制的图案稳定性差。分子链柔性的齐聚物有利于光固化抗蚀剂在铝基附着力的提高。单官能单体相对于多官能单体能赋予光固化抗蚀剂在铝基上更好的附着力。光致抗蚀剂在酸或碱性刻蚀液中的抗蚀能力与其在铝基上的附着力有关,一般附着力越好抗蚀能力越好,刻蚀出来的铝线边缘越平整。本研究中当齐聚物为6215-100,单体为甲基丙烯酸甲酯(MMA)的光致抗蚀剂在酸性和碱性刻蚀液中均有最佳的刻蚀效果。