在0.1 mol·L-1 PBS(pH7.0)和0.5 mol·L-1 H2SO4溶液中,分别研究了三聚氰胺(MEL)在充蜡石墨电极上的电化学行为。采用场发射扫描电镜、光谱电化学及电化学技术,对两种体系中的三聚氰胺修饰充蜡石墨电极进行了表征。0.1mol·L-1 PBS(pH7.0)溶液中,MEL分子经氧化失去两个电子,生成的二价阳离子和另一个中性的MEL分子头碰头结合生成二聚物,并有偶氮化合物的生成;该二聚物作为单体可电化学聚合修饰在充蜡石墨电极表面。0.5 mol·L-1H2SO4溶液中,MEL易水解生成三聚氰酸二酰胺、三聚氰酸一酰胺和三聚氰酸,电化学氧化可促进三聚氰胺的水解;另外,MEL和三聚氰酸通过氢键结合可生成一种“分子饼”状化合物。0.5 mol·L-1 H2SO4溶液中,1.4 V恒电位下,MEL在205和234 nm处的紫外吸收峰随其浓度的增高而增强,在1.0×10-7～1.0×10-5mol·L-1范围内呈现良好的线性关系,检出限分别为1×10-5和3×10-8～mol·L-1(3σ)。该方法可用于奶粉样品中MEL的测定。　　 采用电化学法在充蜡石墨电极上,原位修饰了一种基于三聚氰胺/壳聚糖/Nafion/纳米银/聚槲皮素的类分子印迹-纳米多孔膜(CNSQ/WGE)。场发射扫描电镜、X-射线光电子能谱、红外光谱和电化学验证了该类分子印迹-纳米多孔膜为三维网状结构。该纳米多孔膜修饰电极对三聚氰胺显示良好的选择性富集作用,可用于MEL的直接电化学测定,氧化峰(0.17 V)电流和MEL的浓度在1×10-7～1×10-5 mol·L-1范围内,呈现良好的线性关系,检出限为1×10-8 mol·L-1(3σ)。该修饰电极也可用于三聚氰胺的间接电化学测定,以K3[Fe(CN)6]为探针,[Fe(CN)6]3-的氧化峰电流和MEL的浓度分别在1.0×10-15～1.0×10-14 mol·L-1和1×10-8～9×10-7mol·L-1范围内,呈现良好的线性关系,检出限分别为6.7×10-16mol·L-1和1×10-9(3σ)。该修饰电极有较好的灵敏度和选择性,可用于牛奶样品中三聚氰胺的测定。