由介质阻挡放电（Dielectric Barrier Discharge，DBD）产生的等离子体，已经在许多领域获得了广泛应用，逐渐成为低温等离子体的研究热点之一。然而，由于人们对DBD机理的研究多局限于微放电的形成与发展过程上，对反映微放电集体效应的宏观作用规律研究却很少，限制了DBD应用技术的发展。为了解决传统DBD在气体电离方法方面存在的问题，提高常压条件下放电空间内气体的电离度，从而满足非平衡等离子体化学工程的需要，本文结合国家自然科学基金重点资助项目“高气压下强电场电离气体的方法及其应用的基础研究（编号：69871002）”针对常压条件下DBD放电形貌的演变过程、放电特性及应用等方面进行了研究。 通过研究，不但进一步弄清了DBD等离子体的形成与演变机理，而且为优化DBD系统参量提供了必要依据。主要成果如下： 1．宏观上，DBD放电形态大致可分为局部微放电、完全微放电、扩散及完全扩散等几种放电状态，放电状态的确立有助于弄清影响DBD放电形貌和放电空间内气体电离度的关键因素。 2．利用q-v图形法对DBD等效参量进行了诊断：间隙等效电容Cg、介质等效电容Cs、间隙等效电压Vg、折合电场强度En、放电功率密度P等参量随着激励频率和激励电压等条件的变化表现出不同的变化规律，因此，q-v图形法也可作为DBD的一种动态监测手段。 3．实验中发现，双电介质层DBD和单电介质层DBD会形成两种不同的一维放电形貌，对于不同的应用领域应选择不同的DBD结构。这一发现，对于DBD的实际应用具有重大的指导意义。 4．通过对放电形貌和放电特性的研究，获得了优化放电系统参量的许多依据，比如反应器结构应根据其应用方向选取，放电间隙应尽可能窄，气体流量要适中等。在此基础上，本文还进行了常压DBD合成氨应用研究，研究发现：N₂、H₂总流量及体积比、激励电压、放电功率密度等因素对合成氨浓度具有很大的影响，为DBD的无机物合成提供了一种新方法。