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氮化铌（NbN）薄膜是一种硬质过渡金属氮化物（TMN）薄膜,具有高硬度,高耐磨性,高熔点和高化学稳定性等优点,其在金属切削和保护涂层等方面具有广泛的应用。本文采用射频磁控溅射技术制备了未掺杂和金属掺杂的NbN薄膜。利用X射线衍射（XRD）,能量色散X射线光谱（EDX）,扫描电子显微镜（SEM）,纳米压痕仪,高温摩擦磨损实验机分别对NbN薄膜的微观结构,组成成分,表面形貌,机械和摩擦学性能进行了研究。首先,采用射频磁控溅射技术制备了未掺杂的NbN薄膜。XRD测试结果表明,在衬底温度低于300℃的情况下,NbN薄膜没有明显的衍射峰,薄膜结晶性较差;当衬底温度升高到500℃,NbN薄膜沿（200）方向具有良好的生长趋势,薄膜结晶质量良好;随着氩气与氮气比率的降低,薄膜的结晶性逐渐增强,在氩氮比为20:4时,（200）方向衍射峰最高,薄膜结晶性最好;溅射压强也对薄膜的结晶性有较大的影响,随着压强的降低,薄膜的结晶性逐渐增强,在压强为0.4 Pa时具有最好的结晶性;通过改变溅射功率我们得知,随着溅射功率的增加,薄膜的结晶性逐渐增强。最佳结晶性的NbN薄膜的硬度仅为5.3 GPa,具有较高的摩擦系数,其值为0.73,磨损率较高达到3.3×10-6 mm3/Nmm。其次,采用射频和直流磁控共溅射技术制备了 Ti掺杂NbN（Ti:NbN）三元薄膜以及Y-Ti共掺杂NbN（Y-Ti:NbN）四元薄膜。XRD测试结果表明,随着Ti掺杂功率从15 W逐渐升高到40 W,（200）方向的衍射峰强度先增加后下降,薄膜的结晶性先增加后降低。当掺杂功率为20 W时,衍射峰强度最大,薄膜的结晶性最好。随着掺杂功率增加,薄膜的硬度先增大后减小,在掺杂功率为30 W时具有最大的硬度值20.4 GPa。摩擦系数逐渐下降,而磨损率表现出相同的下降趋势。对于N bN（Y-Ti:NbN）四元薄膜,在掺杂功率为30 W时具有最大硬度,达到25.3 GPa,而摩擦系数随掺杂功率的增加呈现出逐渐下降的趋势,在掺杂功率为40 W时具有最小的摩擦系数0.29,此时的磨损率为2.38 × 106 mm3/Nmm。除此之外,通过三元Ti:NbN薄膜与四元Y-Ti:NbN薄膜的性质对比,表明适量Y的掺入能够有效地提高NbN薄膜的机械及摩擦学性能。