论文部分内容阅读
NiO作为一种极具发展前景的p型金属氧化物半导体材料,在透明导电薄膜、电致变色电极、化学传感器功能层以及超级电容器电极材料等领域有着广泛的应用。在不同的应用领域中,对NiO薄膜的光学、电学以及电化学等方面的性质有着不同的需求,因此对NiO薄膜的光电性质及电化学性质进行调制以使其适应于不同的应用领域具有重要意义。研究表明,在NiO薄膜中掺入杂质是调控其各项性质的最有效手段。磁控溅射法因其有着溅射速率高、薄膜附着力好、成膜纯度高以及可实现混合溅射等优点而被广泛应用在薄膜制备领域。本论文利用磁控溅射法在A