纳米压印光刻技术是一种应用于制备集成电路的最有前途、新一代的光刻技术,它克服了传统光学光刻技术中图形分辨率受最短曝光波长的物理限制,对信息技术的发展起着重要作用。本论文研究设计了一种通过硫醇-烯“点击化学”聚合和香豆素二聚得到主链含有可水解的酸酐和可逆交联剂香豆素的交联网状结构,能对pH值和紫外光双重响应的可降解光刻胶,并将其应用于微型图案的制备。主要目的是解决纳米压印过程中的界面问题,降低模板的清洗难度,提高模板的使用寿命和降低环境污染及生产成本。首先,我们设计并合成了一种含香豆素的可逆交联剂5,7-二丙烯酰氧基-4-甲基香豆素(DAMC),利用核磁共振仪、傅里叶红外光谱仪、质谱仪和元素分析对其结构进行表征。将其与3,6-二氧杂-1,8-辛烷二硫醇(EGDT)、丙烯酸酐(ALA)和光引发剂α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮(DMPA)复配得到对pH值和紫外光双重响应的可降解型光刻胶。其次,研究了该光刻胶的化学特性和物理特性,包括反应动力学、透光率、体积收缩率、热力学性能、表面性能;在不同pH值的水溶液中通过失重法和荧光光谱法分别对固化光刻胶进行降解性能研究。然后,对光刻胶的可逆特性及其对降解的影响进行了研究。最后,通过纳米压印和紫外光刻对光刻胶的图形复制性能进行了研究,得到了高分辨率的微型图案。结合香豆素的荧光特性,得到了具有不同颜色的荧光微型图案。