Ni/Ti中子多层膜周期结构的研究

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由Ni/Ti多层膜制备而成的中子多层膜器件被广泛的应用在中子散射实验装置中。在Ni/Ti周期性多层膜系统中,其周期结构和界面条件都会影响入射中子束的反射率。所以说在这种多层膜系统中膜层之间的周期结构和界面条件在很大程度上决定了中子多层膜器件(本文中为Ni/Ti多层膜)的质量。本文的主要实验在中国科学院物理研究所自行设计研制的超高真空磁控溅射仪上进行。我们选用Ni、Ti为多层膜的制备材料,在不同的工艺条件下,采用直流磁控溅射法以及特有的移动镀膜方式制备出一系列Ni/Ti周期性多层膜。制备出
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