多孔硅表面修饰及摩尔吸光系数测定

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本文报道了对多孔硅表面进行化学修饰,同时进行了摩尔吸光系数的测定研究,并采用一系列检测手段,如红外、质谱、核磁等进行表征,为进一步的应用及原理研究打下基础,如多孔硅表面修饰后固定蛋白质作为分子检测器,图案化后制作蛋白质微阵列,进行酸酐水解的动力学研究等。主要研究工作可以分为以下两部分:1.多孔硅表面的化学修饰首先,平面硅通过电化学反应,生成多孔硅。然后,在微波加热反应条件下与11-溴-1-十一碳烯和三缩四乙二醇的反应产物形成共价连接的Si-C键。接着,末端的羟基在DMAP催化条件下,
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