原子层沉积是将脉冲前驱体交替通入反应腔体并在其反应基底上形成沉积薄膜的一种工艺方法。自20世纪90年以来，各大设备生产商逐渐发展起来，形成了很多成熟的产品。有应用于工业生产，也有应用于科学研究。本文致力于设计与搭建接触加热与辐射加热两套科学研究原子层沉积设备，而其中的核心模块反应腔体的设计。　　在接触加热原子层沉积反应腔体设计中，结合ANSYS CFX流体仿真软件对分析了三种进气方式，结果显示底部进气方式最好。另外还分析腔体的高度，得出前提高度愈小愈好，但是腔体高度愈小时，密封圈处的温度就愈高，这是需要限制的，最后综合考虑取高度为10mm。最后还分析了腔体的出气口直径对其流场的影响，整体趋势是直径愈大，流场效果愈好，并且进出气口直径的差值愈小愈好；此外通入的流量愈大，选择的直径愈大愈好。最后的选择是进出气口直径为6.5mm，出气口直径为10mm。接着进行了耦合分析，铸铁加热器中嵌入四根加热棒时效果较两根好。　　对于辐射加热原子层沉积腔体，采用多孔进气方式，进气小孔的数量为9。在仿真时，进气口通入1000sccm的N2时，直径的增大改善效果不明显；而小孔直径为2mm时，通入的流量不超过500sccm时效果都比较好。考虑到实验多数在小流量下进行，最后选择的小孔直径为2mm。　　另外也介绍了结合密封圈来设计密封槽的具体计算，包括密封槽的截面形状，槽宽以及槽深。接着本文还介绍如何检测真空系统，包括真空度以及漏率。在检测设备上，如何选择检漏仪。　　最后，对搭建完毕的设备进行Al2O3薄膜沉积，在反应条件相同的情况下，接触加热沉积系统的薄膜均匀性约为3％，而辐射加热沉积系统的薄膜均匀性约为2％。同时对两套沉积系统进行了对比，两者有各自应用的场合以及功能。