杂化聚硅氧烷光波导材料的合成及性能研究

来源 :大连理工大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hezeliu
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随着科学技术的迅速发展,光互联解决了电互联的瓶颈问题,而光波导器件又是光互联技术发展的基础,所以性能优异的光波导材料的开发研究成为至关重要的问题。近年来,有机-无机杂化材料由于综合了无机和有机材料各自的优点备受学者的关注,但是水解法制备的杂化材料仍然存在光学损耗偏大、热稳定性能差及薄膜开裂严重等问题。为了解决这些难题,本轮文将F、Zr等杂原子引入体系,利用非水解法制备了一系列杂化聚硅氧烷光波导材料。首先,本论文以十七氟癸基三甲氧基硅烷(FAS-17),二苯基硅二醇(DPSD)和γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH-570)三种单体为原料,应用非水解法合成了含氟杂化聚硅氧烷FPSQ,通过1H-NMR、19F-NMR、29Si-NMR及红外(FT-IR)等测试方法对FPSQ的结构进行了表征,证实了其结构;通过棱镜耦合仪对材料的折射率、光损耗等光学性能进行了测试,实验结果表明:FAS-17单体的引入能够将光损耗降低至0.086dB/cm,效果理想,但同时FAS-17含量每增加5mo1%,折射率降低约0.02,减小了折射率的可调控范围;通过DSC、TGA测试研究了材料的耐热性能,结果表明材料的初始分解温度T1.%在345℃以上,耐热性能优异。为了进一步扩大材料的折射率调控范围,在FPSQ三种单体体系中分别引入了苯基三甲氧基硅烷(PTMS)和正丙醇锆(Ⅳ)单体,并对三种体系的光学性能进行了对比。实验结果表明:PTMS和Ⅳ都增大了材料的折射率,提高了折射率调控范围;当苯基单体PTMS含量为5mo1%时,折射率提高约0.01;当Ⅳ的含量达到0.6mo1%,折射率提高约0.03,这说明Ⅳ对材料折射率的改善效果更好,同时两种单体的引入都没有增大材料的光损耗。最后通过TGA和AFM测试,对材料的耐热性能及表面性能进行了研究,实验结果表明:PTMS和Ⅳ的引入都能够提高材料的耐热性能;两单体的引入都没有增大材料的表面粗糙度。
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