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光栅是一种在表面上按照一定规律分布有线、缝和槽或光学性质变化的物质等构成的光学元件,在国民经济、国防建设和科学技术研究中具有广泛的应用。随着光学及光电技术和计算机应用等技术的发展和进步,具有像差校正及自聚焦、可用以实现绝对位移测量等优点的变周期或间隔及栅线宽度变化结构特征的变距光栅得到了越来越多的重视。与此同时,包括光栅刻划设备在内的传统光栅制造技术也受到了挑战。本文在分析研究变距光栅结构原理和用于传统计量光栅刻划的长刻线机的结构及分度定位原理的基础上,针对一种可以实现绝对式位移测量的变距计