氧化钒作为一种性能良好的光电材料一直受到人们的广泛关注,在智能窗、光电探测、信息储存等方面都有着非常重要的应用。本文面向氧化钒智能窗的应用,针对不同制备工艺条件对氧化钒薄膜的光学透过特性的影响,进行系统的研究。主要工作包括:　　在理论分析方面,利用ansys仿真软件建立了分析磁控溅射氧化钒薄膜制备环境的理论仿真平台,通过仿真仪器的参数(如靶材位置、设备尺寸等)、制备环境(如环境气体、气流大小等),模拟制备环境,通过改变制备工艺条件分析相关工艺参数对成膜的影响,为分析优化制备工艺打下基础。　　在实验研究方面,用直流反应磁控溅射的工艺,采用ITO玻璃和电子玻璃为基底,利用正交试验的科学试验方法,在不同的制备条件下制备了氧化钒薄膜,并针对在不同制备条件下的氧化钒薄膜的光学特性(如可见光及红外透射率、相变温度、近红外透射率对比因子等)进行研究,分析制备工艺中各因素对薄膜相关性能指标的影响以及针对某一特定指标各工艺条件在其中所起到的重要程度;利用紫外-可见分光光度计、XPS、四探针等分析氧化钒光学及电学特性。本论文主要分析氧化钒薄膜的光学特性在节能玻璃方面的应用,采用正交试验的方法,选取退火时间、退火温度、氧氩比三个影响光学特性的因素,建立三因素三水平的正交表,针对每个光学特性指标对应的三个因素分析其最优组合,以及影响该指标对应三个因素的主次关系。　　通过论文的工作,分析其他一些影响薄膜光学特性指标的因素:采用不同的衬底制备氧化钒薄膜,发现ITO衬底的光学透过率要高于玻璃衬底;改变衬底温度制备纳米氧化钒薄膜,发现随衬底温度增加,在350nm-1100nm波段氧化钒薄膜透过率呈下降趋势;改变溅射时间制备纳米氧化钒薄膜,溅射时间越长,薄膜的光学透过率越低。在分析工艺条件影响氧化钒光学特性后,研究通过增加增透膜的方法改善氧化钒薄膜的光学透过特性。建立随机阻抗网络模型,利用氧化钒薄膜的电阻温度曲线对薄膜中VO2以及低价态钒和高价态钒的比例进行预测。　　通过对实验的研究,熟练的掌握了制备纳米氧化钒薄膜的方法和工艺,通过对不同制备参数下的氧化钒薄膜的分析,研究了不同工艺条件对氧化钒薄膜光学特性的影响,并分析了薄膜表面结构以及组分,为今后的应用打下基础。