【摘 要】
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铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga是一种新型的智能材料，最突出的应用功能在于它的马氏体变体可以由外加磁场驱动重新排列而显示出类似于磁致伸缩效应的宏观应变。由于Ni-Mn-Ga合金块体材料的高脆性，很难切割成较小的块，这限制了其在微机电系统中的应用，而薄膜则很好的解决了这个问题。本文采用微波ECR射频磁控溅射技术在Si(100)基片、铜箔和Ni-Mn-Ga基片上分别制备Ni-Mn-Ga薄膜，研究了各种
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铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga是一种新型的智能材料，最突出的应用功能在于它的马氏体变体可以由外加磁场驱动重新排列而显示出类似于磁致伸缩效应的宏观应变。由于Ni-Mn-Ga合金块体材料的高脆性，很难切割成较小的块，这限制了其在微机电系统中的应用，而薄膜则很好的解决了这个问题。本文采用微波ECR射频磁控溅射技术在Si(100)基片、铜箔和Ni-Mn-Ga基片上分别制备Ni-Mn-Ga薄膜，研究了各种制备参数对薄膜成分和性能的影响，以期对这种新型的薄膜材料的制备及特性进行初步探索。结果
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