氧化铝陶瓷在各种电子陶瓷、精密仪器、光学、高温技术、航天航空和军工工业等领域应用越来越广泛。随着电子技术逐渐走向微型化、集成化和精密化,对氧化铝陶瓷表面质量越来越高,为满足质量要求,本文结合氧化铝陶瓷的材料特性,以氧化铝陶瓷基片为抛光样件,设计了多工位三点式偏心磁流变抛光装置。仿真分析磁场发生装置的磁场强度大小,确定较优磁极排列方式和间距。配制多组分磁流变抛光液,并对各组分抛光液的性能进行测试分析。对氧化铝陶瓷基片进行抛光实验,分析不同因素对抛光表面质量的影响。研究内容如下:1.设计多工位三点式偏心磁流变抛光装置,建立了去除函数模型,提供理论基础,对载物盘的材料和固定样件方式设计,对磁场发生装置磁极排布设计与仿真。仿真结果表明:增加磁极间距,磁场强度分布面积增大,但磁场强度降低;磁极单闭环齐磁场排列,磁场分布相对较为均匀,分布有效面积大,磁场强度较高,峰值磁场强度可到达0.7-0.8T。2.制备不同组分的羰基铁粉、磨粒和玻璃粉含量的油基磁流变抛光液,对不同组分的磁流变抛光液进行性能测试和分析。结果表明,当磁场强度增加时,剪切应力和粘度先增加后趋于稳定;当剪切速率增加,剪切应力随磁场强度的增加先快速增加后缓慢增加趋于稳定,粘度随剪切速率的增加而下降;当工作温度为25℃、羰基铁粉含量为45%和玻璃粉含量为12%时,磁流变抛光液的剪切应力和粘度较优。3.开展了氧化铝陶瓷磁流变抛光实验,以氧化铝陶瓷基片为抛光对象,分别对转速、工作压力、磨粒种类、磨粒含量、磨粒粒径、羰基铁粉含量和抛光时间进行抛光实验,分析抛光后氧化铝陶瓷基片表面质量、微观样貌和残余应力的影响规律。当时间为6h、转速为70r/min、压力为15N、磨粒种类为金刚石、磨粒含量为7vol%、磨粒粒径1.5μm、铁粉含量为40vol%,抛光效果较优。