脉冲激光沉积制备不同择优取向的AlN薄膜的研究

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由于氮化铝AlN薄膜具有稳定的物理性质和化学性质、机械强度高、绝缘性能又好、直接带隙宽、热传导率高、低热膨胀系数等特点,广泛应用于声学表面波器件、微电子及光学器件,有关AlN薄膜的制备研究己引起广泛的关注和兴趣。本文研究了用脉冲激光沉积法制备AlN薄膜,通过优化激光能量、生长温度、环境偏压等条件,制备了不同择优取向的AlN薄膜,分别用X射线衍射仪、拉曼光谱仪、傅立叶变换红外光谱仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线光电子谱等仪器检测了样品的结晶度、表面形貌等结构特性。首先在不同的激光能
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