目的：本研究旨在建立稳定的SD大鼠C6脑胶质瘤模型,继而在7T超高磁场下利用1H MRS技术结合LCModel后处理，获得脑胶质瘤体中心，瘤体实质部分、瘤体周边组织及对侧正常脑组织代谢物绝对浓度，分析不同部位代谢变化特征并探讨其在确定肿瘤侵袭边界的价值。　　方法：以立体定向移植法将C6胶质瘤细胞植入SD大鼠颅脑右侧尾状核，术后7天置于7T磁共振扫描仪下行1H MRS及MRI扫描，获得的MRS原始频谱数据在LCModel软件上量化分析，SPSS软件分析各代谢物绝对浓度在不同部位（胶质瘤体中心，瘤体实质部分、瘤体周边组织及对侧正常脑组织）之间的统计学差异性。　　结果：从肿瘤中心到对侧正常脑组织，可以观测到NAA、tCr浓度呈逐渐上升趋势，除肿瘤周边组织与对侧正常脑组织间NAA、tCr浓度无统计学差异性外，其他各组间这两种物质浓度均有统计学差异性。从肿瘤中心到对侧正常脑组织，Ala浓度则呈逐渐下降趋势，仅肿瘤实体部分与对侧正常脑组织间Ala浓度有统计学差异性。Tau和Ins浓度在肿瘤周边组织内达到最低，且两种代谢物浓度在肿瘤周边脑组织内与其它各部位之间均有统计学差异性。Glx浓度在肿瘤周边脑组织内达到最高，且各组间Glx浓度间均有统计学差异性。　　结论：超高场1H MRS技术是分析脑胶质瘤不同部位代谢特征的良好检查手段，Tau、Ins和Glx可能对判断脑胶质瘤潜在瘤体边界提供重要的参考信息。