高功率532nm相干光的二次谐波产生

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本论文报告了高功率稳定的532nm相干光源研制的实验成果,所研制的相干光源是供压缩态光场产生实验所用,其光功率要求为300mW左右,功率稳定时间在小时量级。压缩态光场是一种非经典光场,它在高精度光学测量、亚散粒噪声光学测量、量子通信等领域有着广泛应用前景。作者基于光学二次谐波产生,利用光学谐振腔能提高光学二次谐波转换效率为中心设计了一套二倍频系统方案,制作了实际系统中所需的光、机、电等关键技术单元模块。全文围绕光学谐振腔的实验方案展开论述,简述了非线性光学中的二次谐波产生、光学谐振腔的作用、高斯光束的基本特征参数与自再现变换的推导过程,并以上述几点为根据设计出光学谐振腔的机械机构、计算出腔镜理论上最佳的参数、光学谐振腔模式匹配关键光学元件的参数。实验上重点分析了二次谐波效率的制约因素(包括基频光的方向与偏振态的稳定性、光路中电子学部分工作时间、晶体控温效果等),并以此为依据修改实验方案。最终该套二倍频系统在引力中心的山洞实验室内经HC锁定技术实现了基频光功率为1W时,输出倍频光功率为300mW,一小时波动4%的实验结果。
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