铝表面TiO2膜的制备及光催化特性研究

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TiO2是一种廉价、高活性、安全无污染且性能稳定的半导体材料,在水污染处理技术中,纳米TiO2在紫外光的照射下能产生氧化性极强的羟基自由基,几乎能将所有的有机污染物都氧化为H2O和CO2,且除净度高,降解速度快,无二次污染。常见TiO2光催化剂分为粉体TiO2和薄膜TiO2两种形式。薄膜TiO2以其易回收、稳定性好等优点得到广泛应用,成为目前光催化研究领域的一个重要方向。电沉积技术是制备纳米薄膜的常用方法;它具有其他方法不可比拟的优点,该方法生产费用低、工艺简单、易于操作、薄膜质量易于控制、适合于大规模生产。但到目前为止,利用电沉积方法制备TiO2薄膜的研究报道国内外尚不多见。本文利用脉冲阳极氧化和交流电沉积方法在铝表面制备TiO2光催化薄膜,初步探讨了铝脉冲氧化膜表面电沉积TiO2的原理及制备过程的影响因素。并对交流电沉积法在TiO2/Al2O3复合膜上掺杂金属离子提高复合膜的光催化性能进行了研究。主要结论为:(1)利用脉冲阳极氧化,在铝表面制备得到具有均匀厚膜结构的Al2O3,通过设计正交实验,分析脉冲氧化过程中各因素对膜厚的影响,得到最佳的氧化条件。(2)用交流电沉积法选择适当的电压和沉积时间在Al2O3微孔内沉积TiO2,得到TiO2/Al2O3复合膜,研究发现制备得到TiO2为纳米级;同时,探讨了沉积液配方、煅烧温度和沉积时间等对TiO2/Al2O3复合膜性能的影响。(3)用交流电沉积方法选择适当的电压和沉积时间在TiO2/Al2O3复合膜内沉积Ni、Co、Cu,将制备得到的TiO2/Al2O3和M/TiO2/Al2O3复合膜用于光催化降解次甲基蓝,讨论金属粒子对TiO2/Al2O3复合膜光催化性能的影响。
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