涂覆介质目标的电磁缩比相似关系研究

来源 :中国航天第二研究院 航天科工集团第二研究院 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gushangchen
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面对当前复杂多变的国际形势,为了提高我军众多现役、在研及背景型号的飞机、巡航导弹、弹道导弹等杀手锏武器的生存能力和突防概率,采取必要的隐身技术是当前迫切需要解决的问题,其中使用吸波材料降低目标的RCS是目前最常用的方法之一,但对于此类涂覆介质目标的隐身性能综合测试评估,受各种条件限制,难以实现全尺寸目标的电磁散射测量。因此,通过涂覆介质目标的缩比模型RCS测量来预估全尺寸目标RCS是解决这一问题的有效方法,本文就是针对这种需求所展开的。  本文主要工作如下:  第一章阐述了研究背景和意义,归纳了缩比相似关系的研究现状,主要介绍了对有耗目标电磁缩比关系研究的发展进程和问题难点所在,并介绍了本文的主要工作。  第二章主要介绍金属目标的缩比相似关系,并从中找出在反演过程中影响这个关系的主要几个量;另外简单介绍了已有的有耗目标的电磁缩比关系,作为本文理论的依据与支撑。  第三章研究的是镜面散射为主的目标的电磁缩比关系,应用阻抗模型分析讨论了涂覆介质目标的电磁缩比关系,综合考虑涂覆材料厚度、电磁参数等因素,达到目标反射率不变的要求,以满足涂覆介质目标电磁缩比关系,并对多种模型进行了仿真和实验验证,对实际涂覆介质目标的缩比测量具有一定的参考意义,加强了其在工程上的应用性,并且针对性的设计了涂覆介质平板的电磁缩比实验,对结论进行了验证。  第四章针对的是边缘绕射类目标的电磁缩比关系。将涂覆介质的劈类模型等效为阻抗劈进行分析,将其散射场分为物理光学场和等效电磁流(EEC),分别分析对劈面表面电磁流的影响,推导其表达式,并分离其中对缩比关系有关的项,通过这些项的影响推导验证了物理光学场的缩比关系和边缘绕射的缩比关系,并且通过阻抗不变的条件给出了对于边缘绕射缩比关系有效的涂覆材料选择结果。
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