【摘 要】
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本文主要采用原子层沉积(ALD)/分子层沉积(MLD)技术制备无机(Al2O3)/有机(alucone)交叠结构的封装薄膜,对顶发射有机电致发光器件(TEOLED)进行封装。由于封装TEOLED器件的特
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本文主要采用原子层沉积(ALD)/分子层沉积(MLD)技术制备无机(Al2O3)/有机(alucone)交叠结构的封装薄膜,对顶发射有机电致发光器件(TEOLED)进行封装。由于封装TEOLED器件的特殊性,要求封装薄膜在保证封装性能的同时,具有较高的光学透过率,能够提高器件的光取出量。研究了ALD生长条件对无机薄膜的影响,通过改变生长温度及反应前驱体,提高无机薄膜性能。实验所制备Al2O3/alucone复合结构的封装薄膜,通过精确控制每层薄膜的生长厚度调节Al2O3、alucone所占比例。Al2O3:alucone比例为7:1的薄膜水汽透过率(WVTR)达到8.68×10-5 g/(m2·day),光学透过率有3%的提升。在不影响有机器件性能的前提下,大大延长了器件的使用寿命,提高了TEOLED器件的光取出。
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