聚硅烷的合成、结构与性能研究

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本文系统地总结了聚硅烷的电子结构、光谱特性及其在光学材料中的应用与发展.阐明了聚硅烷用作光学材料的优点.同时也对几种常用的合成聚硅烷的方法及合成特点进行了综述.聚合物的结构决定的性能,故可以通过改变它的结构来提高它的性能.为了提高聚合物的光学性能,合成了侧基含有富电子基-萘基的氯硅烷单体,和其它单体进行共聚合得到二元共聚物.在以往的合成中,受钠缩合法的条件限制,所得的聚硅烷比较单一,有关用三元氯硅烷单体合成聚硅烷尚未见报道,本文针对这一情况,选择具有富电子基的氯硅烷进行共聚,在聚合时作者曾尝试用加入正庚烷来降低聚硅烷分子量的分布,发现加入一定量的正庚烷后,聚硅烷的分子量分布变窄.分别用红外光谱、<1>H-NMR谱、凝胶色谱、X-射线、偏光显微镜、透射电镜对二元共聚物和三元共聚物组成和结构进行了详细的研究.用DSC和TG分析了聚硅烷的热稳定性,通过TG分析可知,聚硅烷一般在300°左右开始失重,说明聚硅烷有很好的耐热性能.本文用紫外光谱和荧光光谱对聚硅烷的光学性能进行了分析.发现制得的聚硅烷在紫外区都有强的吸收,由于共聚时得到的分子量不是很高,它的紫外吸收主要发生在250-300nm处.在以后的工作中还应不断改进聚合方法,提高它的分子量,从而提高它的最大吸收波长,使其成为一种好的光学材料.
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