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面向PDMS类光栅褶皱模板的超低速稳定自动释放系统的设计
【摘 要】
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光栅是一种重要的光学元器件,已被广泛应用于光谱分析、光电传感、图像识别等多个领域,同时由于光栅结构的周期性,也可作为模板用以辅助制备纳米颗粒链阵列体系。因此如何制备高质量光栅结构是提高相关器件性能的关键。采用物理刻蚀方法(如电子束曝光、离子束刻蚀)制备光栅虽然结构可控,但成本较高,且加工较为耗时。近年来,采用等离子体处理柔性基片方法制备的类光栅结构引起了研究人员的关注,其中处于拉伸状态下的柔性基片
【出 处】
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太原理工大学
【发表日期】
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2020年01期
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