随着航空航天事业的不断发展,研究者们逐渐开始关注空间高能粒子的相关特性,各种高能粒子探测器不断被研发出来,实现对高能粒子不同特性的测量。本课题所研究的高能粒子辐射测量系统依据切伦科夫辐射效应原理,应用紫外探测技术,实现对高能粒子的测量。光谱分光元件是高能粒子辐射测量系统中关键的元件,它会影响系统探测的准确度。为了满足高能粒子辐射测量系统的使用需求,本课题研究了一种光谱分光元件,该元件的前表面镀制了紫外滤光膜,该滤光膜使切伦科夫紫外光波段高反射,系统中其余波段的光减反射;对于系统来说前表面透射的光属于杂散光,会影响系统的测量精度,故在该元件的后表面镀制了吸收膜,以减少杂散光对系统的影响,提高信噪比。通过对比实验,选取Hf O2作为高折射率材料。采用全光谱拟合法确定了介质材料的光学常数,椭圆偏振法计算了Cr的光学常数。基于光学薄膜的设计及优化理论,在JGS1基底上完成了滤光膜和吸收膜的膜系设计。通过实验确定了薄膜制备的工艺参数。通过对滤光膜实验结果的测试分析,找到与理论设计产生偏差的原因,进一步优化薄膜的制备工艺。最终制备的滤光膜在200～270nm波段平均反射率为75.9%,在290～780nm波段平均反射率为1.42%,吸收膜在290～780nm波段平均吸收率为96.6%,满足系统的使用需求。