先进二氧化硅微米/纳米图形的制备及优化

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本项目的主要目的是在二氧化硅上制备纳米结构,并进行制备工艺的优化,为后续用于纳米线太阳能电池制备中的选择性纳米线生长做准备。二氧化硅上纳米结构的形成可分别通过纳米压印技术或者电子束刻蚀技术来实现;而二氧化硅上微米结构的形成则可通过光子光刻技术实现,其产品可以应用于立方碳化硅的选择性生长测试。在比较二氧化硅层上制备微米及纳米结构的不同方法后,项目采用纳米压印技术制备二氧化硅纳米结构,目标是在30 nm厚的二氧化硅层中形成直径50-60 nm的小洞。这些带有小洞结构的二氧化硅样品将用作砷化镓磷纳米线分子
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