高功率脉冲磁控溅射TiN薄膜性能调控

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高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)制备的氮化钛(TiN)薄膜具有硬度高、薄膜致密、膜基结合强等一系列优异性能,但却存在残余应力大、沉积速率低、薄膜韧性差这三点不足,限制了其应用的范围。为了降低HPPMS制备氮化钛(TiN)薄膜的内应力、提高沉积速率及薄膜韧性,本文设计通过控制溅射气压调控离子能量,降低薄膜内应力;通过调整溅射靶磁场提高到达基片的靶材粒子数目,提高薄膜沉积速率;进一步利用TiN多层薄膜结构设计提高薄膜韧性。本文采用HPPMS技术,在不同溅射气压(0.2 Pa、1.0 Pa和2.0 P
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