【摘 要】
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该文采用了具有高电光品质因子（为LiNbO的10倍）、粒度约为40nm的微晶钛酸铅（LiNbO）与具有高玻璃化温度（约为225℃）、透明性好的聚合物聚醚醚酮（PEK-c）复合以取代传统的分子与聚合物复
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该文采用了具有高电光品质因子（为LiNbO<,3>的10倍）、粒度约为40nm的微晶钛酸铅（LiNbO<,3>）与具有高玻璃化温度（约为225℃）、透明性好的聚合物聚醚醚酮（PEK-c）复合以取代传统的分子与聚合物复合的设计思想,采用PT纳米微晶作为活性基元,既利用了PT晶体电光系数高（59pm/V）且性能稳定的长处,又回避了该晶体生长困难的缺点.采用PEK-c聚合物作为基质则是利用了其介电常数低、透过波长范围宽、玻璃化温度高等特点.该文的最后一部分提出了一种新的光强调制方法--利用准波导结构和聚合物薄膜的电光效应实现对入射光强度的调制.在准波导结构中,给电光聚合物材料上加上垂直于薄膜表面的电压V,根据Pockels效应,所加电压将改变聚合物薄膜材料的折射率,反射率R也因此而改变,从而实现了光强调制.文中给出了反射光和散射光的光强调制曲线,表明了提高电光聚合物复合薄膜的电光系数和选取合适的薄膜厚度是降低调制电压的两种有效的方法.
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