基于3×3耦合器的光栅干涉纳米位移测量方法研究

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随着现代化科技水平的不断提高,在超精加工、材料科学、生物制药等领域都迫切需要大量程、纳米级精度的计量设备。本文提出了一种基于3×3耦合器的小型化光栅干涉式位移测量方法,将空间光转化为光纤光,降低了环境因素对测量精度的影响。制作完成了系统样机,系统整体结构简单、调节方便。为小型化、高精度的光栅干涉位移测量系统提供了技术参考。本文主要的研究内容及创新点包含以下几个方面:  1.首次将光纤耦合器与计量光栅两者结合,构造干涉测量系统,不仅利用了计量光栅测量基准可靠、零漂小的特点,同时结合了光纤耦合器结构简单、性能稳定、调试方便的特点,实现了一种新型的干涉位移测量系统。  2.位移测量系统的理论分析。解释了光路系统工作的基本原理;根据购买3×3耦合器出厂测试的分光比及损耗,通过散射矩阵,计算出了理论上耦合器三路信号之间的相位差。  3.以严格耦合波理论为基础,介绍了偏振入射光为TE、TM时的理论推导过程。在对光栅进行设计时,分别以表面镀铝和镀金为条件通过Matlab进行仿真分析,选择一级衍射光衍射效率最大时的归一化深度,作为光栅的刻划深度。最后对光栅制作加工条件提出具体要求。  4.对位移细分算法进行了深入的研究,讨论了如何鉴别位移方向,如何实现高倍的电子学细分。在电子学细分中,将实际情况在存在的温度、湿度及空气扰动等影响因素考虑在内,提出了基于反正切变换的三路信号高精度细分算法。仿真结果表明,细分算法能够对位移量进行实时跟踪、精确测量。  5.对设计的3×3耦合器测量系统与标定系统进行了对比实验测试。借助标定设备双频激光干涉仪HP5530,对光栅位移测量系统分别进行了稳定性、小量程、大量程和重复性的测试,对系统进行全面的性能评估分析。  6.对引起测量误差的因素,如光栅、光路结构、电路、光纤耦合器等引入的误差进行分析说明,并指出了误差产生的原因及可行的消除办法。
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