光学元件的近紫外（355nm）纳秒激光的损伤问题一直是限制激光技术往高能量高功率发展的瓶颈，因此研究光学元件的损伤机理，包括光学材料的表面损伤和体损伤，探讨损伤增长规律与机理以及提高光学元件的抗激光损伤能力是高功率系统中需要解决的重要问题。国内外对熔石英损伤研究已经有几十年的历史，然而对氟氧玻璃（OFG）的损伤问题的研究鲜有报道。本文中对氟氧玻璃的损伤研究会为材料损伤机理的研究注入新鲜的血液，对新型高损伤阈值材料的探索和研究的意义深远。本文从光学材料的355nm纳秒激光的损伤问题出发，采用对比原则，研究了氟氧玻璃和熔石英的表面损伤和体损伤，并对两种材料的损伤形貌和损伤机理进行了分析；探讨了氟氧玻璃和熔石英的损伤增长，包括损伤增长阈值、损伤增长因子以及损伤增长与初始损伤尺度的关系，阐述了光学材料损伤增长机理；研究了光学材料的吸收包括稳态吸收、单波长瞬态吸收以及吸收引发的疲劳效应，解释了激光辐照氟氧玻璃的荧光现象，从氟氧玻璃和熔石英的吸收特性方面分析了二者损伤差异性。本文对光学元件在激光辐照下的损伤机理和损伤形貌的了解和认识，以及关于损伤点在后继激光辐照下损伤增长的规律和机理的研究，对研制开发新的光学材料具有重要指导意义。