【摘 要】
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在当代科技飞速发展的背景下,由于电子设备小型化和高性能发展的需要,具有高饱和磁化强度Ms、高磁导率μ、低矫顽力Hc、高电阻率ρ以及适当大的各向异性场Hk的软磁薄膜成为磁性材料发展的一个重要方向。由金属和绝缘体介质组成的纳米颗粒膜由于同时具备磁性金属的高饱和磁感应强度、高磁导率以及绝缘体介质的高电阻率的优点,因此这种纳米颗粒膜软磁薄膜材料已经成为软磁材料研究中的重要分支之一。到目前为止,对于可以在高
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在当代科技飞速发展的背景下,由于电子设备小型化和高性能发展的需要,具有高饱和磁化强度Ms、高磁导率μ、低矫顽力Hc、高电阻率ρ以及适当大的各向异性场Hk的软磁薄膜成为磁性材料发展的一个重要方向。由金属和绝缘体介质组成的纳米颗粒膜由于同时具备磁性金属的高饱和磁感应强度、高磁导率以及绝缘体介质的高电阻率的优点,因此这种纳米颗粒膜软磁薄膜材料已经成为软磁材料研究中的重要分支之一。到目前为止,对于可以在高频下应用的纳米颗粒膜的研究主要集中在由磁性金属与绝缘体(如氧化物、氟化物等等)所组成的颗粒膜,而对于由金
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