【摘 要】
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光折变晶体因具有优良的电光性能而被广泛地应用于光电子技术领域。改善和提高晶体材料的光折变性能有利于提高其潜在的应用价值。多年来,人们在改善和提高晶体材料光折变性能方面做了大量工作,如对晶体掺杂、施加外电场、改变背景光强度、改变温度及对晶体进行相对平移操作等。但是,有关频率不同但沿相同的传播轨迹导入晶体的多束光对晶体光折变性能影响的研究基本没有。基于此,本文主要在无偏压条件下,研究当频率不同但传播轨
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光折变晶体因具有优良的电光性能而被广泛地应用于光电子技术领域。改善和提高晶体材料的光折变性能有利于提高其潜在的应用价值。多年来,人们在改善和提高晶体材料光折变性能方面做了大量工作,如对晶体掺杂、施加外电场、改变背景光强度、改变温度及对晶体进行相对平移操作等。但是,有关频率不同但沿相同的传播轨迹导入晶体的多束光对晶体光折变性能影响的研究基本没有。基于此,本文主要在无偏压条件下,研究当频率不同但传播轨迹相同的多束光导入晶体时,其对晶体光折变性能的影响。主要研究内容如下:1.综述了改善和提高晶体材料光折变
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