含稠环基硅—硅键聚合物的合成及其性能研究

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该文通过合成新的含稠环基硅烷单体,进而合成出数种新型的侧基为稠环基的含硅—硅键聚合物,并对其光电特性、热稳定性等性能进行全面研究,阐明了稠环基、主链结构的影响与规律.对传统合成含稠环基氯硅烷单体的方法进行改进,在无溶剂存在条件下以菲式环戊二烯酮和甲基乙烯基二氯硅烷为原料在封管中高温反应,合成得到了新的含稠环基硅烷单体——甲基苯并菲基二氯硅烷,采用FT-IR,<1>H-NMR,<13>C-NMR等分析手段对单体的结构进行了表征和确认.研究了不同的合成方法、反应温度、反应时间、双烯体等因素对合成反应的影响,找到了最佳的反应条件:反应温度200℃,反应时间15小时.利用甲基苯并菲基二氯硅烷单独或者与甲基苯基二氯硅烷、二甲基二氯硅烷共同在惰性溶剂(甲苯、二甲苯)中发生钠缩合反应分别得到四种新的硅烷均聚物和共聚物.
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