该文简要的介绍了光学薄膜的理论基础,讨论了膜系的特征矩阵.通过它可以知道膜系的光谱特征,包括透射率,反射率,反射系数等光学参数.对单层膜系和多层膜系的分析和计算通常都是通过计算膜系的特征矩阵进行的.在系统的学习和掌握光学薄膜的理论基础上,该文提出了1.55微米窄带滤光片的设计方案.第一种方案是基于规整膜系的.规整膜系的分析设计方法有多种,史密斯分析法和西伦分析法是两种计算和分析多半波滤光片的有效方法,在这次规整膜系的设计过程中得到了很好的应用.但是采用规整膜系方法设计的1.55微米窄带滤光片,膜系结构复杂,层数较多,对于具有较高需求的膜系设计有困难.第二种方案是基于非规整膜系的,并采用遗传算法进行了膜系的自动优化设计.由遗传算法设计的1.55微米窄带滤光片具有优良的光谱性能,并且膜系层数较少.但是由于各膜层的光学厚度并不是1/4中心波长的整数倍,所以在薄膜的镀制方面存在困难.考虑到工艺的限制,该文对设计的1.55微米窄带滤光片的非规整膜系进行了规整化的处理和匹配层的添加,使之既具备自动优化设计的膜系层数较少,光谱性能较好的特点,又具备规整膜系的制备操作简单,易于实现的特点.在薄膜的镀制工艺方面,该文分析了几种主要的工艺因素在镀制过程中对薄膜性质的影响,并且拟定了各种工艺的参数.1.55微米窄带滤光片是在ZZX-500真空镀膜机上镀制的,并应用了光学薄膜度实时监控系统.实验测试结果表明,成品的光谱特性和理论计算基本吻合,误差在允许范围之内,镀制实验比较成功.对于引起实测成品的光谱性能变化的因素,文中作了比较详细的分析和研究,并且提出了匹配膜系在1.55微米窄带滤光片光谱性能改变中的作用.最后,该文对薄膜镀制实验中应该注意的问题和待改进的地方作了一些说明.