随着人类在科学上的进步，人类战胜了许多由细菌和病毒等微生物给人类带来的疾病，但是新的病毒层出不穷，细菌和微生物的不断变异和进化使得病毒的传播途径也多种多样。例如被誉为非洲死神的“埃博拉”病毒，以及覆盖全球的“寨卡”病毒等等，各种抗菌产品的研发也随之增加。其中效果最卓著的莫过于半导体材料光催化灭菌了，其主要有以下几点优势:第一，能够有效杀灭抑制细菌;第二，够降解灭菌后的残留有毒物质转化成无害的CO2、 H2O和无机物;第三，解决了菌种进化产生抗药性的问题。　　在本文常用的光催化杀菌的半导体材料中，普遍都存在利用可见光效率低和载流子复合较快等问题，这样就会影响到光催化杀菌的效率。在本论文中，本文选择TiO2复合纳米膜进行杀菌特性的测试，复合材料选择In2O3，这是因为对于TiO2的研究无论国内还是国外都比较深入，In2O3会拓宽TiO2的吸收光谱范围，并且In2O3具有较强的导电能力。在异质结双层膜两端施加电场，异质膜在电场的条件下内建场的形成能够使光照后产生的电子-空穴对有效分离得到加强。本论文通过X射线衍射对单层TiO2薄膜和TiO2复合纳米膜测试其晶相结构，还通过原子力显微镜和扫描电镜分析了薄膜的表面形貌，通过光谱仪分析了薄膜的光吸收特性。　　本文选取了热处理温度为400℃、450℃、500℃、550℃的单层TiO2薄膜和TiO2复合纳米膜，在相同实验条件下进行了多组抗菌性能研究。从研究结果得出随着热处理温度的升高，薄膜的抗菌性能也随之升高。TiO2复合纳米膜相对于单层TiO2薄膜表现出更好的灭菌效果，抗菌速率更快，且抗菌更加彻底。在外加电场为0.5V、1.0V、1.5V、2.0V的条件下分别对复合膜进行抗菌性能研究，在相同条件下得出研究结果:随着外加电压的升高，薄膜的抗菌性能野随之升高。