近年来,越来越多的研究者开始关注纳米材料,由于纳米材料具有独特的物理和化学性质,在催化、滤光、医药和磁存储介质等方面表现出了广阔的应用前景。随着研究工作的不断进行,人们的注意力已由单一纳米结构性质的探索,逐步转移到如何制备纳米材料上来。模板辅助法是制备纳米材料的重要方法之一其中氧化铝模板因为其稳定的化学性质,孔洞排布的高度有序性和孔洞直径的可控性受到了学术界的广泛关注。在模板的帮助下,可以轻松的制备多种纳米结构,如纳米线、纳米管和纳米点阵。本论文的工作主要包括两部分：改进氧化铝模板,除去模板底部的阻挡层,进一步扩大模板的适用范围；利用模板法制备氧化锌纳米阵列并研究其性质。在模板改良方面,我从理论角度解释了模板底部阻挡层的形成原理和除去阻挡层的意义和方法。从现在普遍接受的体积膨胀模型出发,我得出了阻挡层是在自组织过程中,反应达到平衡前A1片在电压作用下氧化形成的。由于阻挡层的存在大大增加了模板整体的电阻,阻碍了模板孔洞与基底的联系。通过BI method我成功除去了模板底部的阻挡层,大大增加了氧化铝模板的应用范围。在氧化锌纳米结构制备方面,通过原子层沉积(ALD),利用无阻挡层的氧化铝模板,我成功制备了氧化锌纳米点阵列,并研究了其光致发光(PL)特性。将其与薄膜氧化锌的PL谱对比,发现两者的PL峰所在位置无明显变化。将氧化锌纳米点阵列在不同温度下退火(200℃-800℃),发现随着退火温度的升高对PL峰也没有影响,但是会降低光致发光的强度。