本文在首创亚微米级超薄液层电化学沉积系统的基础上，对系统中的生长形态进行了深入研究，对沉积形态及其转变、形态形成和演变进行定性和定量的分析。澄清了超薄电解质薄膜中有序结构的生长机制，提出了对应于有序结构产生和周期性电流/电势振荡的解析模型，并与实验结果进行了定量对比。具体工作包括以下几个方面： 1.利用原子力显微镜和扫描电子显微镜等先进的表征手段，系统研究了超薄电化学沉积巾得到的金属铜纳米丝阵列的形态。研究了铜丝有序阵列上纳米周期结构与生长条件的关系，研究了周期结构与化学组分的关系，研究了金属丝纳米阵列的结构特征。 2.对超薄电化学沉积系统中的振荡行为进行了系统研究。确认了实验中观测到的电流/电势振荡与沉积物上周期结构的对应关系，指出该系列时空振荡是一自组织行为。系统研究了电流，电压和溶液pH值对电化学沉积中时空振荡行为的影响。 3.基于大量实验观测和CuSO4溶液的电化学沉积过程中Cu与Cu2O生成反应的规律，提出了数学模型用以解释电化学沉积过程中的电流自发振荡现象，进而解释了沉积物上空间周期结构的产生原因。理论结果与实验测量定性相符。 4.解释了超薄电化学系统中金属丝阵列能直接在绝缘的衬底上生长的物理原因。计算表明成核率不仅取决于成核势垒，还取决于系统中离子输运的形式。当电解质溶液层厚度降低后，沿衬底生长的成核率大大提高，金属沉积物形貌的有序性增强，同时沉积物更容易沿着衬底生长。