电弧源制备氧化铝薄膜的工艺研究

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氧化铝是光学薄膜中常用的中等折射率材料之一,氧化铝薄膜在可见和近红外范围内具有较高的透射率,主要的物理气相制备方法有热蒸发和反应磁控溅射。热蒸发的离子动能最高为0.1eV,制备的薄膜均为柱状结构;溅射技术将离子动能提高到1-10eV,薄膜的柱状结构有所改善。电弧源技术,靶材被离化后离子的动能高,最高可达100eV,沉积到基片上的离子动能大小通过基片偏压调控,现已广泛应用于制备硬质膜、装饰膜等,但是还没有在光学薄膜方面的应用。磁过滤电弧源技术不仅离子动能高,且滤除了弧源蒸发本身所带来的“大颗粒”融滴,
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本文采用硅烷偶联剂为无机前躯体,以聚苯胺(PANI)为导电有机相,采用溶胶-凝胶法的制备方法,与无机前躯体进行杂化,然后采用提拉的方法制备了透明导电薄膜。实验首先采用γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(KH570)作为前躯体,研究了聚苯胺的含量和不同的制备工艺对杂化薄膜性能的影响。在以上实验的基础上,我们研究了不同的硅烷偶联剂对杂化聚苯胺薄膜性能的影响,它们包括:γ-巯丙基三甲氧基硅烷(KH59
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