氚化钛是一种优良的贮氢材料，被作为氚靶的膜材料和离子源片材料广泛应用于中子管中。在我国，对氚化钛的研究主要集中在核能、化学材料研究院所。由于对成膜特性研究的方向不同，成膜工艺参数要求各异，因此膜材料的制备设备主要靠自行研制为主。这些设备在操作方面需要适度自动化控制，数据需要及时采集并按一定的方法处理，需要编制专用软件。 本论文重点阐述了化学气相沉积(CVD)法制备氚化钛薄膜装置的总体设计过程，主要包括反应系统机械硬件设计、电控系统硬件设计、计算机控制专用软件设计和编写过程。论文主要工作如下： (1)在分析了CVD镀膜的技术特点、应用及发展趋势的基础上，提出了实现本系统的技术路线，并总结了本论文研究的主体工作及意义。 (2)对钛、钛氢化物性质以及CVD镀膜的工艺参数进行了分析，针对镀膜装置设计的使用要求，技术指标和应具备的主要功能，确定了氚化钛镀膜的工艺流程，据此设计了系统的总体结构。 (3)通过对系统的总体设计后，应用三维CAD技术以及优化设计技术对系统的硬件部分进行了设计；论述了真空设计与加工中的主要问题及解决办法，并对主要参数进行了计算、校核。 (4)在分析了系统功能的后，给系统配置了能实现其控制功能的个人计算机、电气控制元件等，在充分考虑可靠性的基础上设计了控制电路。 (5)研究个人计算机的通讯机制，在VC++环境下对控制系统的软件部分进行开发。详细阐述了实时数据采集、显示、保存，实时数据曲线的绘制，以及对温控仪的PID控制等功能的实现方法。