激光直写系统加工三维微纳结构主要利用了光刻胶的双光子聚合效应,通过控制激光聚焦点的功率及位置,让光刻胶发生交联反应,理论上可以制备出任意三维形貌的微纳结构。目前,加工三维微纳结构多使用价格高昂的飞秒激光器,不利于整个工艺的推广。本论文研究了一种基于532nm连续激光器搭建的激光直写微纳加工平台,讨论了使用该系统加工微纳结构的基本原理,分析了微纳结构加工对系统的工艺要求,研究系统加工微纳结构的工艺流程,摸索出了一套三维微纳结构的加工工艺并进行优化,最后通过实验制备了多种微纳结构,验证了工艺的可靠性。本论文主要工作可以概况为以下两个方面:(1)对微纳结构加工关键技术和工艺要求的研究。首先,介绍了光刻胶曝光原理以及双光子聚合效应的原理,研究了提高双光子聚合效果的主要方法;接着研究了对微纳结构加工的工艺要求:包括对系统的光路调节的要求,对光刻胶使用的工艺要求,以及对微纳结构加工文件的工艺要求等;最后汇总了整个加工的工艺流程,并对微纳结构制备过程中可能出现的问题进行了讨论分析。(2)对系统加工分辨率的研究。通过实验的方法,研究了连续激光的加工功率与扫描速度等重要参数对微纳结构制备的影响,研究出实验所搭建的直写平台的加工分辨率;最后,优化了微纳结构加工的工艺参数和平台使用的工艺流程,通过加工木材堆、螺旋、球体等复杂三维微纳结构验证了工艺的可靠性。