用光电子能谱研究半导体表面的催化钝化

来源 :中国科学技术大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户：azhu0919

【摘要】

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该文利用X射线光电子能谱(XPS)、紫外光电子能谱(UPS)以及样品功函娄的测量较为系统地研究了碱金属对半导体表面的催化氧化、稀土金属Ce对III-V族半导体的催化氧化和稀土金

【作者】

：

杨宏杨

【机构】

：

中国科学技术大学

【出处】

：

中国科学技术大学

【发表日期】

：

1999年期

【关键词】

：

光电子能谱研究半导体表面催化氧化

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该文利用X射线光电子能谱(XPS)、紫外光电子能谱(UPS)以及样品功函娄的测量较为系统地研究了碱金属对半导体表面的催化氧化、稀土金属Ce对III-V族半导体的催化氧化和稀土金属Ce本身的氧化过程,对催化氧化的机理做了一定的探讨,在碱金属催化氧化中特别研究了适当提高衬底的温度对整个氧化过程的影响.

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